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為了能夠讓edi水處理設(shè)備在工作運(yùn)行過程中水質(zhì)達(dá)到相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)，原水中離子物質(zhì)完全去除，保證設(shè)備達(dá)到一個(gè)平衡的狀態(tài)，模塊的工作條件也保持正常狀態(tài)，就需要正確的調(diào)節(jié)EDI超純水處理設(shè)備的進(jìn)水流量、濃水流量以及電壓。
Edi超純水處理設(shè)備進(jìn)水流量的調(diào)節(jié)
進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過EDI的處理范圍,出水水質(zhì)會顯著變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在EDI系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進(jìn)水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。
EDI全自動超純水處理設(shè)備濃水流量的調(diào)節(jié)
濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。由于Si在25℃,pH值是6～8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。
edi超純水處理設(shè)備裝置電壓的調(diào)節(jié)
如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是比較明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實(shí)現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。
目前EDI技術(shù)已經(jīng)是當(dāng)今比較流行的水處理方式了，采用EDI技術(shù)與反滲透技術(shù)結(jié)合使用有非常好的處理效果，并在各行各業(yè)獲得了眾多好評。
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